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神秘买家大订单预示EUV技术进入量产

上网日期: 2015年05月08日 ?? 作者: Rick Merritt ?? 我来评论 字号:放大 | 缩小 分享到:sina weibo tencent weibo tencent weibo


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关键字:微影技术? EUV? 微影系统?

针对荷兰半导体设备供货商艾司摩尔(ASML Holdings NV)售出15台极紫外光(EUV)微影系统给一家神秘美国买家的新闻,业界分析师们分别提出了不同的反应与看法。虽然很少有人怀疑英特尔(Intel)就是买家,但这项交易的条款以及EUV是否为半导体制造准备就绪等细节仍不明朗。

EUV微影技术虽然已经用了几十年了,由于存在光源不足的缺陷,至今仍无法提供制造先进芯片所需的良率与产能。ASML长久以来已经在这方面发布了几次重要的系统升级,但最近的进展仍远低于生产目标。

就在去年秋天的英特尔开发者论坛(IDF)上,英特尔院士Mark Bohr表示,EUV“尚未准备就绪,其产能与可靠性都还未能到位。”

Mark Bohr当时表示,英特尔正着眼于一种无需使用EUV的方法,能够在更具成本效益的前提下制造7nm芯片。他稍早前即针对10nm制程发表相同的看法,不过,该公司尚未对于7nm与10nm制程节点透露更多细节。

有的分析师认为英特尔就是ASML新闻发布中所提到的美国现有客户。不过,根据另一位分析师推测,这会是一项长期的交易,因为在15台EUV系统中有10台要到2017年以后才能出货。根据分析师指出,这项交易已经让ASML的股价上涨15%了。

其他分析师也采取更乐观的看法。“对于英特尔来说,要在10nm节点利用EUV为时已晚,目前的时机似乎更适合用于7nm,”Real World Technologies首席分析师David Kanter表示。

“这是对于ASML投下信心的一票,从这项订单的规模可看出,EUV即将进入大量生产;以往的交易通常只买一两台机器,主要用于实验目的,”Kanter说, “而英特尔购买EUV可望促进其他竞争对手如三星(Samsung)、Globalfoundries与台积电(TSMC)在不久的将来尽快进行系统升级,”他补充说。

然而,Kanter提醒,实际的销售交易仍然取决于EUV是否能符合性能目标。此外,他并补充说,EUV系统能否达到内存制造商更严峻的成本目标,一切也还是个未知数。

今年稍早,台积电宣布采用配备80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系统,在24小时内曝光1,000片晶圆。该公司预计在7m制程节点时使用EUV,但在10nm生产开始后也将尝试导入于其10nm制程中。这 项新的EUV交易显示英特尔可能也打算采取类似的计划。

无疑地,EUV是业界主要的候选技术,它能够避免当今193nm浸润式微影系统利用多种图形化步骤带来的高成本。然而,除了与光源有关的问题以外,EUV仍然面临光阻剂、光罩侦测、密度与防护膜等障碍。

编译:Susan Hong







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