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NIL与Oxford Instruments合作,开发纳米压印光刻技术

上网日期: 2007年10月05日 ?? 作者: John Walko ?? 我来评论 字号:放大 | 缩小 分享到:sina weibo tencent weibo tencent weibo


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关键字:压印光刻技术? 基板? 蚀刻?

纳米压印光刻邮票的领先提供商NIL Technology A/S公司日前与Oxford Instruments合作开发针对纳米压印光刻的蚀刻工艺。

纳米压印技术必需的所有三个蚀刻步骤目前已经开发出来了:采用硅和熔融石英的NIL邮票的蚀刻;压印之后残留层的去除;以及将图案移至基板(硅和熔融石英)。

纳米压印光刻技术是一种通用的、具有成本效益的高生产能力方法,可用于10nm以下结构的生产,目标应用广泛,包括数据存储器、光学传感器和生物传感器等。

这次合作结合了Oxford Instruments公司(英国牛津)的在乳浆蚀刻方面的工艺开发专门技术以及NIL Technology公司(丹麦哥本哈根)在开发模板、邮票和工艺方面的经验。这两家公司已经合作开发了针对以熔融石英纳米压印邮票的蚀刻、去除压印留下的聚合物并且只有极小的临界尺寸损失以及最终结构的蚀刻等工艺。






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