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Chipworks首次披露Xilinx 65纳米Virtex-5 FPGA元件的内部结构

上网日期: 2006年11月24日 ?? 我来评论 字号:放大 | 缩小 分享到:sina weibo tencent weibo tencent weibo


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关键字:Chipworks? Xilinx? 65纳米?

从事半导体晶片及微电子系统反向还原工程及分析的Chipworks公司近日宣布,已分析Xilinx公司采用65纳米工艺的XC5VLX50Virtex-5FPGA两个元件样本。其中一款元件由数字消费市场65纳米技术的领导厂商日本东芝公司制造;而另一款元件则由另一业界先锋台湾联华电子制造,也是Xilinx过去10多年来的主要晶圆代工伙伴。Chipworks现已开始接受客户订购有关结构分析报告,Xilinx/UMC(SAR-0612-801)及Xilinx/Toshiba(SAR-0612-802.)。Chipworks公司也开始了DC电晶体特性检测,比较结构对效能的影响,为先进节点竞争的重要信息。

两款元件都有12层金属层(11层铜与1层铝),并以12寸晶圆制造。此外,两款元件都在NMOS电晶体上运用tensile nitride strain技术进行生产。但Chipworks的分析结果显示,两者在金属化(metallization)与电介质(dielectric)结构上有相当大的差异。其他差异已详列于Chipworks针对这次分析所出版的报告。当这些元件已投入量产,相信有关差异对Virtex-5在效能、成本或功耗上的影响将值得关注。

Chipworks的分析报告充分披露Xilinx用以提升Virtex-5的效能、降低功耗及比以往版本减少45%成本的各项结构与工艺元素。Chipworks的客户能利用这些信息从同业身上学习,进而改进其设计,并加快产品上市时间。






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