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受限设计规则浪潮来袭,EDA工具市场增长将会遭遇禁锢?

上网日期: 2006年08月02日 ?? 作者: Dylan McGrath ?? 我来评论 字号:放大 | 缩小 分享到:sina weibo tencent weibo tencent weibo


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关键字:EDA工具? 受限设计规则? RDR? 版图设计?

随着在32nm节点应用受限设计规则(RDR)浪潮的来临,Gartner公司EDA设计研究副总裁Mary Ann Olsson表示,如果该势头蔓延下去,有可能限制EDA市场的增长。在第18届年度Gartner Dataquest高级管理人员简报会上,Olsson表示,有一定比例的32nm设计肯定将采用RDR,也称之为结构化规则硅(structured regular silicon)。如果该比例大于40%,Olsson分析,可制造性设计工具的市场将大幅度萎缩。

采用RDR将使设计工程师能够采用不太昂贵的版图设计工具,并减少使用DFM和成品率分析工具,Olsson说。

RDR概念的背后是限制设计工程师产出的版图,目的是增强可制造性,这种势头在大学和IDM研究实验室迅速形成。例如,RDR可能对门间距和取向作出限制,或者甚至要求所有形成门的多晶硅功能都具有相同的取向、宽度和间距。

日前,Gartner首席EDA分析师Gary Smith表示,在32nm节点,将有越来越多的半导体公司采用RDR,作为确保可接受的成品率和投资回报的一种办法。Smith表示,这个概念在45nm已经由IBM证实,其它主要的芯片制造商,包括英特尔公司、AMD公司和东芝公司正在协同开发RDR设计工艺技术。

Olsson表示,RDR将使设计工程师采用不那么昂贵的EDA工具,降低芯片设计的门槛。RDR也将需要弥合芯片制造商和EDA公司之间的“鸿沟”,她说。“EDA和半导体公司将来要携手并肩地工作。”

Olsson表示,32nm节点就像是一个“巨大冲击”的工艺节点,它还将引发芯片制造行业的洗牌。32nm和22nm节点业务的高昂成本,将迫使一些玩家退出芯片制造业,她说,小型无晶圆IC设计公司在向32nm和22nm转移的过程中,也将遭遇困境。

Olsson注意到,相对于轰轰烈烈的、最先进的、最前沿的65nm技术而言,即使最先进的公司仍然利用90nm和130nm设计来赚取大部分营业收入。为了证实这一点,Olsson举例说,Broadcom公司在2007年前就不打算采用65nm制造工艺;而在头号代工厂TSMC,仅仅有17%的芯片制造采用90nm工艺,绝大部分还是采用成熟的工艺节点(90nm以上)。她说:“真正获利丰厚的、有利可图的仍然是130nm和90nm工艺节点。”

Olsson表示,Gartner预测大约2020年450nm代工厂将上线生产,但是,很少有公司将采取实际步骤。她认为,450nm作为非常“昂贵”的投资,将掌控在极少数企业手中。






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