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上周要闻回顾(2004年2月9日-13日)

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关键字:上周要闻回顾? 中国聚焦? 数字电视? 超宽带技术?

一、中国聚焦

中国电子产业规模全球第三,数字电视产业面对四大猜想

根据官方的最新数据,2003年中国电子制造业实现销售收入1.88万亿元人民币,已成为中国工业第一大产业,同时产业规模位居世界第三,但由于缺乏核心技术,国家将大力扶植软件、集成电路、第三代移动通信、数字电视、信息化装备、汽车电子等领域的发展。与此同时,外商在外投资兴建晶圆厂的热度并未降温。由美国Prima Research & Technologies公司投资的8英寸0.25微米晶圆厂——常州柏玛微电子最近正式开业,预计2004年6月实现量产。此举一方面使国内已有的华虹NEC、中芯国际、上海宏力、北京华夏、摩托罗拉天津芯片厂等晶圆代工企业面临更激烈的竞争,另一方面也有助于进一步做大中国的晶圆代工产业。

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二、通信与网络

超宽带技术渐行渐热,TD-SCDMA跻身日本3G候选名单中

业界对超宽带(UWB)技术的关注及重视持续升温。现任IEEE 802.11n高速无线局域网任务组主席的Matthew Shoemake转到新近创立的UWB公司WiQuest执掌大权,在他看来,UWB技术将成为无线技术的下一个前沿阵地。而拥有50多个业界领先公司为会员的多频带OFDM联盟(MBOA)预计将于3月成立特别工作小组,拟于5月公布UWB 1.0标准,以便推动UWB市场增长。就中国而言,由大唐电信提出的TD-SCDMA 3G标准也成为人们难解的心结,一方面对其寄于厚望,另一方面其商用进程一再让人失望,而如今TD-SCDMA进入日本3G候选名单,也会让矢力支持TD-SCDMA的人们获得一个宽慰。

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UWB将成下一个前沿阵地?WLAN与UWB之争愈演愈烈


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三、EDA专题

EDA工具接受点评,芯片业需要更强大设计技术

融合了492位工程师对超过80个供应商的自动化设计工具进行的用户测评结果显示,设计师对采用Cadence、Synopsys和Magma的集成工具平台保持谨慎,但对使用较小供应商的工具仍然保持开放的姿态。同时,用户对SystemC语言的和行为综合的兴趣日益增长,而SystemVerilog语言并没有完全被用户接受,同时工程师对功率和信号完整性非常关注。而随着业内越来越难以从CMOS scaling中获取性能增益,IBM的FELLOW Jim Kahle日前呼吁,芯片工业日益需要创造出更强大的设计技术,以保持芯片工业延续增长的发展道路。

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加州教授预言:后硅片时代编程技能将超越IC设计


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四、计算机与多媒体

MMC卡4.0标准发布,Cirrus最新平台为数字娱乐推波助澜

世界MMC卡协会(MMCA)日前向业界发布了MMC卡4.0标准,新标准提供了更宽的数据带宽和更快的传输速率,并支持双电压操作模式,以此满足下一代移动电子设备市场的需求——小尺寸、快速数据传输、低电压操作,还有最佳的灵活性和兼容性。全新的4.0版本标准据信代表了各种闪存卡的发展方向。另一方面,数字娱乐产业近来年迅速增长,Cirrus Logic紧盯这一商机,日前宣布推出新款平台,据称该平台具备集成数字音频/视频接收机(AVR)和DVD录像及播放功能所需要的全部音频和视频芯片组和软件,从而提供了一个多合一的娱乐解决方案,为数字娱乐市场推波助澜。

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ARM宣布收购微控制器公司Triscend


摩托罗拉VMEbus单板电脑速度突破300MBps


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Cirrus推出家庭影院录像机芯片组与软件平台


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五、半导体工艺技术

193纳米光刻技术或在07年投产,低k成90纳米工艺商用绊脚石

在日前举行的光刻论坛上,大部分与会代表投票赞成在2007年及2009年的制造中采用“干”和“湿”两种形式的193纳米光刻,许多公司认为157纳米仅作为备用。另一方面,90纳米工艺技术的商用进程受到质疑,加拿大市场咨询公司Semiconductor Insights首席技术官Edward Keyes认为,低k绝缘材料将成为向90纳米工艺转换的门槛。

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多数公司转向193纳米光刻,2007年投入生产


90纳米工艺尚未真正商用,低k可能成为绊脚石


ChipPAC推出铜和低k绝缘体90纳米封装工艺

六、产品突破

飞利浦MEMS电容性能创纪录,松下下一代干电池性能更佳

微机电系统(MEMS)采用先进的半导体工艺,将具有信号处理功能的智能机械结构集成在一块芯片中,使得复杂的微型器件能够以较低的成本批量生产,而诸多业界知名公司纷纷加强在这方面的研究开发。飞利浦研究院的科学家日前推出最新MEMS电容,其Q因子高达500,据称超越了所有同类器件,能被用于增强手机射频电路性能,并减小尺寸。而致力减小数字便携产品的尺寸的同时,延长其电池使用时间也是业界关注的一个要点。日本松下(Matsush_ita)公司最近开发成功了一种新型的干电池,其性能据称是碱性干电池性能的1.5到2倍。通过采用新的阳极材料和生产工艺,Matsush_ita宣称对于数字相机等需要大电流的应用领域,这种电池可以提供两倍的性能。

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飞利浦称研制出性能创纪录的MEMS电容


松下开发成功下一代干电池,性能提升1倍







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